Фторопласт листовой 12х300х300 мм

Минимальная толщина листового фторопласта Ф-4, получаемого методом прессования, обычно составляет 0.5-1.0 мм. Более тонкие пленки (толщиной от нескольких микрометров) изготавливаются методами строгания из прессованных заготовок или каландрованием суспензионного фторопласта.

Фторопласт Ф-4 листовой обладает хорошей стойкостью к диметилформамиду (ДМФА) при температуре 50°С. При длительном контакте возможно незначительное набухание материала, однако без химического разрушения его структуры. Рекомендуется проведение предварительного тестирования для конкретных условий эксплуатации.

Фторопласт Ф-4 листовой демонстрирует исключительную стойкость к озону. Продолжительное воздействие озона, даже в высоких концентрациях (например, 10 мг/м³), не приводит к его деструкции или изменению физико-механических характеристик.

Фторопласт Ф-4 листовой не обладает стойкостью к расплавленным щелочным металлам, таким как натрий и калий, а также к их растворам в аммиаке. Эти реагенты вызывают химическую деструкцию полимера. Также материал нестоек к элементарному фтору при высоких температурах и к трифториду хлора.

Фторопласт-4 листовой обладает исключительной химической стойкостью к концентрированной серной кислоте (98%) при температурах до 250°С. Он не набухает, не растворяется и не деградирует, что делает его оптимальным для футеровок и уплотнений в данной среде.

Для изготовления прокладок, работающих в среде толуола при 60°С, оптимальным выбором является чистый фторопласт Ф-4 листовой. Он демонстрирует превосходную химическую стойкость к ароматическим углеводородам в указанном температурном режиме, обеспечивая надежную герметизацию соединений.

Допустимый удельный прогиб для листа фторопласта Ф-4 толщиной 20 мм, используемого в качестве смотрового окна в агрессивной среде, должен быть минимальным и, как правило, не превышать 1-2% от длины пролета. Фторопласт Ф-4 не рекомендуется для изготовления самонесущих смотровых окон, работающих под давлением, из-за его низкой жесткости и высокой ползучести.